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POLITECNICO, PASSERELLA MODA A CAMPUS DURANDO CON CREAZIONI STUDENTI FIT

27 maggio 2016 Cronaca

Si è tenuta al Campus Durando del Politecnico, la sfilata di moda conclusiva del “Bachelor of Fine Arts in Fashion Design” per i 13 laureandi del programma FIT in MILAN, “campus abroad” del Fashion Institute of Technology di New York.
Con la guida di insegnanti e di un critico proveniente dall’industria della moda, studenti e studentesse si sono cimentati nell’intero ciclo di produzione dei loro capi, dall’elaborazione di un concept, all’intera realizzazione, partendo dal cartamodello sino alla confezione. Tale processo creativo e didattico comprende lo studio dei punti maglia, la smacchinatura manuale o elettronica per i capi di maglieria come anche l’ideazione del disegno e la realizzazione delle stampe.
Dal 2007/08 il Politecnico di Milano è “Campus abroad” del Fashion Institute of Technology, State University of New York (FIT). Ogni anno il Politecnico ospita quattro classi FIT, in media 40/50 studenti, che trascorrono a Milano uno o due anni di formazione. Gli studenti di entrambi gli atenei condividono esperienze didattiche e progetti comuni, lezioni, laboratori progettuali, workshop con aziende di settore e tirocini professionali. Come parte del programma di scambio, inoltre, ogni anno, una selezione di studenti italiani del Corso di Laurea Magistrale in Design della Moda trascorre un semestre al FIT di New York.

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